氧化處理工藝流程:除油(化學(xué)除油、電解除油)、除銹、氧化、涂保護(hù)膜(油脂或?qū)S帽Wo(hù)劑),工藝間應(yīng)有清洗工序。
氧化過程中不需通電(但需加熱,一般150度左右)。
氧化后所得膜層為黑色(與材料成分有關(guān))。具有輕微耐蝕必性,但對(duì)可提高消光能力。
物質(zhì)失電子的作用叫氧化;相反的,得電子的作用叫還原。狹義的氧化反應(yīng)指物質(zhì)與氧化合;還原反應(yīng)指物質(zhì)失去氧的作用。氧化時(shí)氧化值升高;還原時(shí)氧化值降低。氧化、還原都指反應(yīng)物(分子、離子或原子)。
氧化膜的生成機(jī)理 :
在硫酸電解液中陽極氧化,作為陽極的鋁制品,在陽極化初始的短暫時(shí)間內(nèi),其表面受到均勻氧化,生成極薄而有非常致密的膜,由于硫酸溶液的作用,膜的最弱點(diǎn)(如晶界,雜質(zhì)密集點(diǎn),晶格缺陷或結(jié)構(gòu)變形處)發(fā)生局部溶解,而出現(xiàn)大量孔隙。
即原生氧化中心,使基體金屬能與進(jìn)入孔隙的電解液接觸,電流也因此得以繼續(xù)傳導(dǎo),新生成的氧離子則用來氧化新的金屬,并以孔底為中心而展開,最后匯合,在舊膜與金屬之間形成一層新膜,使得局部溶解的舊膜如同得到“修補(bǔ)”似的。
隨著氧化時(shí)間的延長(zhǎng),膜的不斷溶解或修補(bǔ),氧化反應(yīng)得以向縱深發(fā)展,從而使制品表面生成又薄而致密的內(nèi)層和厚而多孔的外層所組成的氧化膜。其內(nèi)層(阻擋層、介電層、活性層)厚度至氧化結(jié)束基本都不變,位置卻不斷向深處推移;而外早一定的氧化時(shí)間內(nèi)隨時(shí)間而增厚。